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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
SCCM VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
SCCM VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
管(Φ6mm)7、靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)可选配件金、铟、银、白金等各种靶材 VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是zei新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
0.5mm-3mm;可溅射Au、Ag、Pt、Cr、Ni,不可溅射氧化物、半导体、一些轻 金属、Al、Zn、C等 VTC-16-3HD3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
、靶材:尺寸直径?47mm,厚度0.1mm-3mm;可溅射Au、Ag、Pt、Cr、Ni,不可溅射氧化物、半导体、一些轻 金属、Al、Zn、C等 VTC-16-3HD3靶等离子溅射仪是
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VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
净重:20 kg(不包括泵) VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,且样品台的高度可以调节。此款镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜,最大制膜面积为4英寸。 产品简介
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300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF
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VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪
技术参数1、输入电源:220VAC 50/60Hz2、溅射电流:0-150 mA可调3、功率:<2KW4、输出电压:1600VDC(max)5、溅射腔体(1).采用石英腔体,尺寸:166mm
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